電泳：用于不銹鋼、鋁合金等，可使產(chǎn)品呈現(xiàn)各種顏色，并保持金屬光澤，同時(shí)增強(qiáng)表面性能，具有較好的防腐性能。

工藝流程：前處理→電泳→烘干技術(shù)特點(diǎn):

 優(yōu)點(diǎn)：1、顏色豐富；2、無金屬質(zhì)感，可配合噴砂、拋光、拉絲等；3、液體環(huán)境中加工，可實(shí)現(xiàn)復(fù)雜結(jié)構(gòu)的表面處理；4、工藝成熟、可量產(chǎn)。缺點(diǎn)：掩蓋缺陷能力一般，壓鑄件做電泳對(duì)前處理要求較高。 

微弧氧化：在電解質(zhì)溶液中（一般是弱堿性溶液）施加高電壓生成陶瓷化表面膜層的過程，該過程是物理放電與電化學(xué)氧化協(xié)同作用的結(jié)果。工藝流程：前處理→熱水洗→?MAO?→

烘干技術(shù)特點(diǎn)：優(yōu)點(diǎn)：1、陶瓷質(zhì)感，外觀暗啞，沒有高光產(chǎn)品，手感細(xì)膩，防指紋；2、基材廣泛：Al,?Ti,?Zn,?Zr,?Mg,?Nb,?及其合金等；3、前處理簡(jiǎn)單，產(chǎn)品耐腐蝕性、耐候性極佳，散熱性能佳。缺點(diǎn)：目前顏色受限制，只有黑色、灰色等較成熟，鮮艷顏色目前難以實(shí)現(xiàn)；成本主要受高耗電影響，是表面處理中成本最高的其中之一。

PVD真空鍍 物理氣相沉積（Physical?vapor?deposition，PVD）：是一種工業(yè)制造上的工藝，是主要利用物理過程來沉積薄膜的技術(shù)。?工藝流程:?PVD前清洗→進(jìn)爐抽真空→洗靶及離子清洗→鍍膜→鍍膜結(jié)束，冷卻出爐→后處理（拋光、AFP）?技術(shù)特點(diǎn):?PVD（Physical?Vapor?Deposition,物理氣相沉積)?可以在金屬表面鍍覆高硬鍍、高耐磨性的金屬陶瓷裝飾鍍層 、

電鍍：是利用電解作用使金屬的表面附著一層金屬膜的工藝從而起到防止腐蝕，提高耐磨性、導(dǎo)電性、反光性及增進(jìn)美觀等作用的一種技術(shù)。?工藝流程：?前處理→無氰堿銅→無氰白銅錫→鍍鉻

技術(shù)特點(diǎn)：?優(yōu)點(diǎn)：?1、鍍層光澤度高，高品質(zhì)金屬外觀；?2、基材為SUS、Al、Zn、Mg等；成本相對(duì)PVD低。?缺點(diǎn)：?環(huán)境保護(hù)較差，環(huán)境污染風(fēng)險(xiǎn)較大。

粉末噴涂?(Powder?coating)?粉末噴涂：是用噴粉設(shè)備（靜電噴塑機(jī)）把粉末涂料噴涂到工件的表面，在靜電作用下，粉末會(huì)均勻的吸附于工件表面，形成粉狀的涂層；粉狀涂層經(jīng)過高溫烘烤流平固化，變成效果各異（粉末涂料的不同種類效果）的最終涂層。?工藝流程：?上件→靜電除塵→噴涂→低溫流平→烘烤